정부는 반도체 등 국가전략 기술 투자에 대해 최대 25% 세액공제 확대를 추진한다.

앞으로 반도체 산업 시설에 투자하는 대기업은 투자액의 15%를 세금에서 감면받게 될 전망이다.

정부는 3일 발표한 반도체 투자 세제 지원 강화 방안에 따르면 추가 투자 증가분에 대한 혜택까지 고려하면 시설 투자 세액공제율은 최대 25%까지 올라간다.

추경호 경제부총리 겸 기획재정부 장관은 이날 개최된 대통령 주재 제1회 국무회의에서 '반도체 등 세제지원 강화 방안'을 보고했다.

이번 반도체 등 국가전력 산업에 대한 세제 지원 추가 방안은 글로벌 기술 패권 및 공급망 경쟁 격화에 따라 반도체 등 경제 및 안보적 가치가 큰 전략 품목에 대한 전폭적 지원이 시급한 상황이라는 판단 떼문으로 해석된다.

게다가 법인세율 인하폭(1%p) 감소와 불충분한 반도체 투자 세액 공제율 상향 등에 대해 경쟁국 대비 투자 지원이 미흡하다는 지적도 영향을 미친 것으로 보인다.

▲ 대기업 공제율 거의 2배 상향…임시투자세액공제 한시적 도입

정부안에 따르면 반도체·배터리·백신 등 국가전략기술의 당기(연간) 시설 투자에 대한 세액공제율이 대기업 기준 현재 8%에서 15%로 올라간다.

공제율을 현재의 2배 가까운 수준으로 올려 세제 혜택을 대폭 확대하겠다는 의미다.

가령 삼성전자가 올해 반도체 생산시설에 1조원을 투자한다면 정부안 기준으로 1500억원에 달하는 세금을 감면받을 수 있게 된다.

이와 별도로 올해 투자 증가분(직전 3년 평균치 대비)에 대해서는 국가전략기술 여부와 상관없이 10%의 추가 공제 혜택이 주어진다.

이 경우 반도체 등 전략 분야에서 신규 사업에 뛰어드는 대기업은 당기분과 증가분을 합쳐 최고 25%의 세액공제를 받을 수 있게 된다.

중소기업의 경우 당기 공제율이 현재 16%에서 25%로 올라간다.

투자 증가분을 포함한 최고 세액공제율은 35%에 달한다.

정부는 또 과거 경기 위축기에 활용했던 임시투자세액공제를 올해에 한해 재도입하기로 했다.

임시투자세액공제는 투자 업종이나 목적과 상관없이 기업 투자에 일정 수준의 추가 세제 혜택을 주는 제도다.

우선 일반 투자에 대한 세액공제율이 현재 1∼10%에서 3∼12%로 2%포인트(p)씩 일괄 상향된다.

신성장·원천기술의 경우 공제율을 3∼12%에서 6∼18%로 기업 규모에 따라 3∼6%포인트(p)씩 올린다.

올해 신성장·원천기술에 투자하는 대기업은 6%, 중견기업은 10%, 중소기업은 18%씩 공제 혜택을 받을 수 있다는 의미다.

이에 따라 반도체 등 분야에서 3.6조원 이상 추가 세부담 감소 혜택이 있을 것으로 예상된다.

경쟁국 반도체 분야 세제 지원을 보면 미국은 설비투자에 25%, R&D 비용 증가분에 대해 20%, 대만은 설비투자 5%, R&D 비용에 25% 세제 지원을 하고 있다.

관련 법 개정안은 이달 중으로 마련해 최대한 빨리 통과한다는 목표를 세웠다.

이로써 정부는 지난달 23일 국회 본회의에서 관련 법이 통과된 지 11일 만에 추가 감세 방침을 공식화했다.

정부는 "반도체 산업을 중심으로 위축된 기업 투자 심리를 반전시키고 국가전략산업의 글로벌 경쟁력을 확보할 필요가 있다"라고 설명했다.

다만 세액공제 혜택이 지나치게 급격히 확대되면서 내년 세수에 악영향이 미치게 됐다는 점은 부담이다.

정부는 이번 개정안으로 내년 세수가 3조6500억원 감소할 것으로 추산했다.

이후 2025∼2026년에는 연간 세수가 1조3700억원씩 줄어들 것으로 예측했다.

한편, 정부가 내놓은 공제율 상향안이 기존 야당안을 대폭 웃도는 만큼, 향후 야당의 반대 또한 변수가 될 전망이다.