|2026.03.03 (월)

재경일보

삼성전자 "D램 라인 최적화…생산량에 영향 있을 것“

이겨례 기자

삼성전자는 30일 D램 수요 감소에 따라 "라인 최적화를 적극적으로 진행할 예정이며 생산량에 영향이 있을 것"이라고 밝혔다.

삼성전자 관계자는 이날 올 1분기 실적 공시 후 진행된 콘퍼런스콜에서 "라인 최적화는 보편적이지만 이번에는 더욱 적극적으로 진행할 것"이라며 "생산 규모는 구체적으로 결정되지 않았다"고 말했다.

삼성전자는 "비수기 영향과 하반기 증설 영향으로 (D램) 재고수준은 전분기 대비 증가했다"면서 "탄력적으로 캐파(생산능력)를 운영해오고 있다"고 설명했다.

동종 업계에서 일부 생산 감축에 들어간 데 대해서는 "기본적으로 타 공급사 전략과 무관하게 자체 시장 분석과 전망에 따라 투자와 공급 전략을 운영하고 있다"며 추가 생산 감축 가능성을 일축했다.

삼성전자

앞서 발표한 시스템 반도체 투자 계획에 관한 질문에는 "(12인치 공장) EUV(극자외선) 전용라인을 통한 증설을 진행하고 있다"면서 "65나노를 비롯한 구세대 공정에서도 센서 전용 라인 증설을 계획 중"이라고 밝혔다.

또한 8인치 공장은 "전장향, 사물인터넷(IoT)향 수요 증가로 생산성 향상을 진행하고 있다"고 덧붙였다.

최근 일부 서버용 D램 제품에 불량이 발생한 것과 관련해서는 "일시적인 품질 이슈가 있었으나 현재는 모두 해결된 상태"라고 밝혔다.

1세대 10나노급(1x) 라인의 램프업(생산량 증대) 과정에서 일시적인 품질이슈가 있었으나 현재 생산라인은 정상적으로 운영되고 있다는 설명이다.

그러면서 "(보상에 따른) 충당금이 올 1분기 실적에 대부분 반영됐다"며 "올 2분기에는 (이에 따른) 손익 영향이 최소화할 것"이라고 덧붙였다.

이어 이 관계자는 "2세대 10나노(1y) 램프업은 이와 무관하게 추진되고 있다"면서 "반도체 미세공장의 기술적 난도가 높아지는 상황에서 이번 일을 반면교사로 삼아 품질관리를 강화하고 있다"고 강조했다.

반도체

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