트럼프 행정부가 더 빠른 컴퓨팅 칩 제조의 핵심으로 여겨지는 자유전자 레이저 개발 스타트업 엑스라이트(xLight)에 지분 참여를 결정했다.

2일(현지 시각) 로이터 통신에 따르면 미국 상무부는 1일 정부가 최대 1억 5천만 달러를 회사에 투입할 것이라고 밝혔으나, 정확한 지분 규모는 공개하지 않았다.

이번 투자는 트럼프 행정부가 바이든 시대의 74억 달러 규모 반도체 연구 기관을 인수한 후, 상무부 산하 CHIPS 연구개발(R&D) 사무소가 처음으로 단행하는 투자라는 점에서 의미가 크다.

▲ 칩스 R&D 사무소 첫 투자, 최대 1.5억 달러 지원

미국 상무부 CHIPS 연구개발 사무소는 엑스라이트에 미국 정부 인센티브를 제공하기 위한 구속력 없는 예비 의향서에 서명했다고 발표했다.

지원 규모는 최대 1억 5천만 달러로, 엑스라이트는 이 자금을 활용해 반도체 제조의 핵심 기술인 차세대 레이저 기술을 개발할 예정이다.

하워드 루트닉 상무부 장관은 성명을 통해 "너무 오랫동안 미국은 첨단 리소그래피(Lithography) 분야의 선두를 다른 나라에 양보해 왔다.

트럼프 대통령 하에서 그런 시대는 끝났다"라고 강조하며 이번 투자의 중요성을 역설했다.

▲ 첨단 칩 제조의 '핵심 난제'인 레이저 기술 확보

이번 투자는 첨단 반도체 제조 분야에서 가장 중요한 장비인 극자외선(EUV) 리소그래피 기술 경쟁력 확보를 목표로 한다.

현재 네덜란드의 ASML만이 EUV 장비를 독점적으로 생산하고 있으며, 이 장비에서 패턴을 실리콘 웨이퍼에 새기는 데 사용되는 레이저는 해당 기계에서 가장 제작하기 어려운 부분으로 꼽힌다.

엑스라이트는 입자 가속기에서 파생된 기술을 활용하여 현재 레이저보다 훨씬 적은 전력을 사용하는 자유전자 레이저를 개발할 것을 제안했다.

엑스라이트는 이 시제품을 개발하기 위해 미국 국립 연구소들과 협력하고 있으며, 개발 성공 시 ASML 등이 제작하는 장비에 연결하여 사용 가능할 것으로 기대된다.

▲ 전력 효율적인 차세대 리소그래피 기술 선점

엑스라이트가 개발을 추진하는 자유전자 레이저는 기존 EUV 광원보다 전력 효율성이 뛰어나 차세대 EUV 리소그래피 장비의 핵심 동력원이 될 잠재력을 가지고 있다.

이는 장기적으로 미국의 반도체 제조 경쟁력을 높이고, ASML에 의존하고 있는 리소그래피 장비 시장에 새로운 대안을 제시할 수 있는 전략적 투자로 평가된다.

▲ 기업 역량 강화: 전 인텔 CEO 팻 겔싱어 합류

엑스라이트는 기술 개발 외에도 경영 역량을 강화하고 있다.

전 인텔(Intel) CEO였던 팻 겔싱어가 지난 3월 엑스라이트의 집행 위원장으로 합류했다.

이는 엑스라이트가 반도체 업계에서 강력한 네트워크와 전문성을 확보했음을 보여주며, 기술 개발과 시장 진출에 속도를 낼 수 있는 기반을 마련했다는 분석이 나온다.

▲ 전망과 평가

이번 트럼프 행정부의 엑스라이트 투자 결정은 미국의 반도체 첨단 제조 기반 강화와 글로벌 기술 주도권 확보 전략을 반영한다.

주요 반도체 장비의 핵심 기술인 극자외선 레이저 소스 분야에서 혁신을 추진해 생산성 향상과 비용 절감 효과를 기대하며, 향후 미국이 반도체 산업에서 경쟁 우위를 지속하는 데 중요한 역할을 할 것으로 전망된다.