[재경일보 김윤식 기자] 중국 내 반도체공장 건설을 추진 중인 삼성전자가 산시성 시안시를 우선협상도시로 선정했다.

삼성전자는 21일 차세대 낸드 플래시 생산 라인 건설을 위해 중국 시안시와 양해각서(MOU) 체결을 위한 실무 협상을 시작한다고 밝혔다.

시안시는 산업용수, 전기 등 반도체 라인 운영에 필요한 산업 인프라가 잘 갖추어져 있고 많은 IT(정보기술) 기업의 연구 거점과 유수의 대학들이 소재해 우수 인재를 확보할 수 있는 이점이 있는 것으로 알려졌다.

특히 시안을 포함한 중국 서부는 글로벌 IT 기업들이 생산 거점으로 속속 진출하고 있고 중국 고객들이 지속적으로 확대되고 있어 신속한 시장 트렌드 반영과 고객 대응이 가능한 전략 거점으로 성장할 것으로 전망된다.

삼성전자는 시안시와 협상이 원만하게 마무리되고 중국 정부의 승인 절차가 완료되면 금년내에 건설에 착수, 내년 말부터 생산 라인 가동에 들어갈 계획이다.

올해 고성능 대용량 10나노급 낸드플래시를 양산해 프리미엄 메모리 시장을 주도하고 있는 삼성전자는 내년부터 중국에서도 10나노급 낸드플래시 양산을 개시, 중국 시장을 선점한다는 계획이다.

한편, 삼성전자의 해외 반도체 공장 건설은 지난 1996년에 건설한 미국 텍사스주 오스틴 반도체 공장에 이어 두번째로, 삼성전자는 지난해 12월 지식경제부에 반도체 중국 진출을 신청해 지난 1월 승인받았다.