국내 반도체 공정기술 사상 첫 국제표준 채택

김윤식 기자기사입력 2013.01.14 12:15

[재경일보 김윤식 기자] 국내 반도체 공정기술이 처음으로 국제 표준으로 채택됐다.

14일 한국반도체산업협회(KSIA)와 국제반도체장비재료협회(SEMI)에 따르면, 국내외 반도체 기업 100여 개가 참여하는 정보·제어 기술 위원회(I&C Technical Committee)가 최근 국내 반도체 공정기술을 국제 표준 SEMI E5-0712로 채택했다.

반도체 공정에 사용하는 850여 개의 SEMI 국제 표준 중에서 국내에서 제정한 표준은 이번이 처음이다.

최근 하이테크산업에서 기술력 우위보다 표준화 선점이 경쟁력 확보의 핵심요소로 부각됐지만, 반도체공정 표준 분야는 그동안 북미와 일본이 선점해왔다.

SEMI E5-0712는 반도체 장비 간 통신 규격에 관한 것으로, 반도체 제조 공장(팹)의 자동화에 필수적인 소프트웨어 분야 표준이다.

특히 팹 자동화 설비를 변경할 때 발생하는 장비 간 통신 오류를 낮춰 통신 편의성을 높인 것이 특징이다.

4년여의 표준개발 노력 끝에 표준에 선정됨으로써 국제표준 주도를 위한 첫발을 내딛게 됐다고 SEMI는 설명했다.

이번 표준 제정은 KSIA에서 지식경제부 산업융합원천기술개발사업으로 수행 중인 차세대 반도체 장비 및 소자의 표준화 기술개발 과제의 하나로 추진됐다.

SEMI와 KSIA는 2008년부터 삼성전자 및 SK하이닉스 등 국내 반도체장비업체들과 공정분야 표준화 활동에 박차를 가해왔다.

SEMI 관계자는 “이번 국제표준 제정으로 우리나라가 반도체 강국의 위상을 높임과 더불어 국제표준을 실질적으로 주도해 나갈 수 있는 계기를 마련했다”며 “향후 반도체공정분야 표준화 선점을 위한 의미 있는 출발점이 될 것”이라고 기대했다.

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